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O: Oberflächenphysik
O 11: Poster (I)
O 11.37: Poster
Montag, 23. März 1998, 19:30–22:30, Bereich C
AES-Untersuchungen zum SO2-Schichtwachstum auf Ag(110) — •P. Simon, M. Höfer und H.-W. Waßmuth —
FB Physik der Philipps-Universität Marburg, Renthof 5, 35032 Marburg
Das Stranski-Krastanov-Wachstum von SO2 auf Ag(110) wurde mittels AES für verschiedene Adsorptionstemperaturen untersucht. Durch den Elektronenstrahl findet mit einem totalen Wirkungsquerschnitt von 5·10−16 cm2 eine elektronenstimulierte Desorption und Zerschlagung des Adsorbats statt. Die bei einer Adsorptionstemperatur von 73 K beobachtete exponentielle Abnahme der Anfangswerte des AES-Substrat-Signals mit wachsender SO2-Bedeckung (⇒ mittlere freie Weglänge für Elektronen im SO2-Adsorbat: λ(Eprim=2 keV)=15 Å) ist mit der Annahme vieler kleiner Inseln erklärbar, die das Substrat ab der zweiten Lage quasi-schichtförmig überdecken. Bei Erhöhung von Tads entstehen weniger, jedoch größere Inseln, was bei Tads=103 K selbst bei einer Nominalbedeckung von 170 ML nur zu einer 50-prozentigen Abschwächung des AES-Signals der sauberen Oberfläche führt. Mittels eines einfachen Modells konnte für Tads=85 K bzw. 103 K ein mittlerer Abstand der Inselzentren von 250 bzw. 1700 Å abgeschätzt werden. Im Unterschied zu dem bei Tads=73 K quasi-schichtförmig aufgewachsenen Adsorbat ist die hochgradig dreidimensionale 103K–Adschicht für Nominalbedeckungen ϑSO2>40 ML mit bloßem Auge sichtbar.