Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm
Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe
O: Oberflächenphysik
O 11: Poster (I)
O 11.45: Poster
Montag, 23. März 1998, 19:30–22:30, Bereich C
Oxidation von Ni3Al(111) bei 300K und 1000K — •A. Rosenhahn, J. Schneider, C. Becker und K. Wandelt — Institut für Physikalische und Theoretische Chemie, Universität Bonn, Wegelerstr. 12, D-53115 Bonn
Die Oxidation der Ni3Al(111)-Oberfläche wurde mit STM und Messungen der Austrittsarbeitsänderung (ΔΦ) bei Temperaturen von 300K und 1000K untersucht. STM-Bilder der reinen Legierungsfläche zeige= n die 2x2 Überstruktur der Al-Atome. Typische Verunreinigungen wie Sauersto= ff und Kohlenstoff zeigen dabei ein ähnliches Abbildungsverhalten wie auf Al(111). Während der Sauerstoffadsorption bei Raumtemperatur zeigt sich zunächst ein Anstieg der Austrittsarbeit, welcher auf Chemisorption des Sauerstoffs hinweist. Weitere Adsorption führt zu einer Erniedrigung der Austrittsarbeit auf einen geringeren Wert als den der reinen Fläche, was typisch für eine Inkorporation von Sauerstoff ist. Im STM beobachtet man von Beginn an eine Aufrauhung der Fläche, welche kontinuierlich fortschreitet. Dabei bleiben jedoch bis zur Sättigung die Stufenkanten erkennbar. Während der Sauerstoffadsorption bei 1000K zeigt sich ein Wachstum von Oxidinseln. Dieses erfolgt nahezu ausschließlich an Stufenkanten, wobei die Inseln sowohl auf die Terrasse hinaus als auch in die Stufe hineinwachse= n. Die Oxidinseln zeigen eine langreichweitige Überstruktur, die sich durch die unterschiedlichen Gitterkonstanten des Oxidfilms und des Substrats verstehen läßt.