Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 11: Poster (I)

O 11.98: Poster

Montag, 23. März 1998, 19:30–22:30, Bereich C

Eine HAS Studie des Wachstumsmechanismus rauher Na-Filme auf Glimmer-Oberflächen — •R. Gerlach und H.-G. Rubahn — MPI für Strömungsforschung, Bunsenstr.10, D-37073 Göttingen

Glimmer wird aufgrund seiner geringen Oberflächendefektdichte und seiner geringen Rauhigkeit häufig als Substrat für epitaktisches Wachstum von Metallfilmen genutzt. In der vorliegenden Arbeit untersuchen wir mit elastischer Helium-Atomstrahl-Streuung (HAS) als Ergänzung zu linearen und nichtlinearen optischen Messungen [1,2] das Wachstum von Natrium-Filmen im Dickenbereich bis zu einigen 10 Monolagen (ML) und bei Oberflächen-Temperaturen zwischen 90K und 300K. Durch Variation der Einfallsenergie der Helium-Atome erhalten wir eine Stufenhöhe des reinen Glimmer-Substrats von 2.5Å. Adsorption von Na-Atomen an Oberflächendefekten führt bei geringen Bedeckungen (Θ<0.2) zu einem charakteristischen Anstieg der spekularen He-Reflektivität, der von einem starken Signalabfall aufgrund der Zunahme statistischer Defekte und einem anschließenden Anstieg aufgrund der Streuung von einer geordneten Na-Oberfläche gefolgt wird. Die Stufenhöhen, aber auch die Domänenbreiten sind deutlich kleiner als bei der reinen Substrat-Oberfläche.

[1] T.Müller, P.H.Vaccaro, F.Balzer, H.-G.Rubahn, Opt.Commun.
135(1997)103.

[2] F.Balzer, R.Gerlach, J.R.Manson, H.-G.Rubahn, J.Chem.Phys.
106(1997)7795.