Regensburg 1998 – scientific programme
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O: Oberflächenphysik
O 21: Methodisches (Experiment und Theorie) (II)
O 21.8: Talk
Tuesday, March 24, 1998, 18:00–18:15, H44
Rekonstruktion von Oberflächenstrukturen aus Mikrostrahl-PIXE-Spektren — •E. Berger1, W. von der Linden1, V. Dose1 und V. Prozesky2 — 1Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, Abteilung Oberflächenphysik, EURATOM Assoziation, D-85748 Garching — 2Van de Graaff Group, National Accelerator Centre,P.O. Box 72 7131 Faure, South Africa
Particle Induced X-ray Emission (PIXE) ist eine elementspezifische Meßmethode, um Oberflächenstrukturen und Tiefenprofile zu ermitteln. Der Gewinn an Tiefeninformation führt jedoch zu einem Verlust an Auflösungsvermögen. Die Kombination von Bayesscher Wahrscheinlichkeitstheorie und Wavelettransformation ermöglicht es, das Auflösungsvermögen deutlich zu verbessern. Von besonderer Bedeutung ist das Verfahren u.A. bei der Analyse von Bauelementen. Hierzu werden Beispiele vorgestellt.