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O: Oberflächenphysik

O 23: Rastersondentechniken

O 23.16: Vortrag

Mittwoch, 25. März 1998, 18:15–18:30, H37

Strukturierung eines monomolekularen Farbstoffilms mittels optischer Nahfeldmikroskopie — •Th. Dziomba, A. Naber, U.C. Fischer und H. Fuchs — WWU Münster, Physikalisches Institut, Wilhelm-Klemm-Str. 10, 48149 Münster

Mit der optischen Rasternahfeldmikroskopie können Strukturen in Photoresists geschrieben werden, deren Breite die Beugungsgrenze der konventionellen optischen Mikroskopie weit unterschreitet [1]. Um das potentielle Auflösungsvermögen der Nahfeldlithographie auszunutzen, verfolgen wir ein Konzept, das auf einem monomolekularen Film basiert. Durch die lokale Belichtung soll die chemische Oberflächenreaktivität derart geändert werden, daß geeignete Substanzen selektiv an diesen Stellen anbinden können. Hier stellen wir die nahfeldoptische Strukturierung einer Monolage eines Cyaninfarbstoffs vor, bei dem die gebleichte Struktur durch Aufnahme eines Fluoreszenzrasterbildes direkt kontrolliert werden kann. Das Profil der Bleichstrukturen wird dabei maßgeblich durch das Bleichverhalten des Farbstoffs beeinflußt. Erste Versuche zur selektiven Adsorption wurden mit Latexkugeln durchgeführt.
Diese Arbeit wird mit den Mitteln der DFG, FI 608-3 gefördert

[1] A. Naber, H. Kock, H. Fuchs, High-Resolution Lithography with Near-Field Optical Microscopy, Scanning, 18, 567-571 (1996)