Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 24: Epitaxie und Wachstum (III)

O 24.12: Vortrag

Mittwoch, 25. März 1998, 17:15–17:30, H44

Temperaturverhalten d"unner Kobalt–Filme auf der Re(0001)–Oberfl"ache — •D. Schlatterbeck, M. Parschau, and K. Christmann — Institut f"ur Physikalische Chemie, FU Berlin

Mit den Methoden TDS, XPS, AES und Δφ, STM und LEED wurden Filme vom Submonolagenbereich bis hin zu 20 ML untersucht.

Bei RT ergibt sich ein Lagenwachstum, oberhalb ca. 650 K erfolgt 3D–Wachstum. Ab 1000 K setzt wiederum Lagenwachstum ein. Dies wird aus den Θ– und T–abh"angigen XPS–Intensit"atskurven deutlich und spricht f"ur eine ausgepr"agte Schwoebel–Barriere, die auch in STM–Aufnahmen zu beobachten ist. Die Θ–abh"angige "Anderung der Austrittsarbeit zeigt bis auf ein Minimum von 150 meV in der N"ahe der Monolage den "Ubergang der Austrittsarbeit von Re(0001) auf diejenige von Kobalt. STM–Aufnahmen bis zu mittleren Temperaturen (<700 K) belegen das oben genannte Wachstumsverhalten.

Eine Oberfl"achenlegierungsbildung, die mit STM in der obersten Substratlage und in der ersten Co-Lage zu beobachten ist, schl"agt sich nicht in BE-Verschiebungen der Rhenium– und Kobalt–XPS–Zust"ande nieder. Auch die mittels TDS bestimmte Desorptionsenergie im Bereich der Monolage liegt in der N"ahe der Sublimationsenergie f"ur reines Kobalt.