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O: Oberflächenphysik

O 34: Poster (II)

O 34.60: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 20:00–22:30, Bereich C

Rasterwirbelstrommikroskopie im Ultrahochvakuum — •P. Leinenbach¹, U. Memmert¹ und U. Hartmann² — ¹Institut für Schicht und Ionentechnik, FZ-Jülich, D-52425 Jülich — ²Institut für Experimentalphysik, Universität des Saarlandes, D-66041 Saarbrücken

In der dynamischen Magnetokraftmikroskopie werden aufgrund des zeitlich variierenden Magnetfelds in der Probe Wirbelströme induziert, die signifikant zur Dämpfung der Hebelarmoszillation beitragen. Kürzlich wurde mit einem unter Umgebungsbedingungen operierenden AFM gezeigt, daß dieser Effekt zur lokalen Abbildung der Leitfähigkeit inhomogener Proben genutzt werden kann [1]. Aufgrund der hohen Güte der Hebelarmschwingungen im UHV ist hier eine besonders hohe Empfindlichkeit zu erwarten. Wir haben die Schwingungsdämpfung als Funktion des Spitzen-Proben-Abstandes auf in situ im UHV präparierten GaAs-Proben und dünnen Ag-Schichten auf GaAs untersucht und einen deutlichen Einfluß der Leitfähigkeit auf die Dämpfung gefunden. Diese Ergebnisse wurden mit Simulationen verglichen. Die Abbildung von inhomogenen Ag-Schichten mit dieser Methode wird demonstriert und das erreichbare Auflösungsvermögen wird diskutiert.

[1] B. Hoffmann, R. Houbertz, and U. Hartmann, Appl. Phys. A, im Druck