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O: Oberflächenphysik

O 34: Poster (II)

O 34.81: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 20:00–22:30, Bereich C

Winkelaufstreuung bei der streifenden Streuung von schnellen He-Atomen an einer Al(111)-Oberfläche — •T. Hecht, R. Pfandzelter und H. Winter — Institut für Physik, Humboldt-Universität, 10115 Berlin

Wir beobachten, daß streifend auf eine saubere und sehr glatte Al(111)-Oberfläche fallende 1-10 keV He-Atomstrahlen in einen sehr kleinen Winkelbereich um die Spiegelreflexionsrichtung gestreut werden. Die Halbwertsbreite (FWHM) der Polarwinkelverteilung beträgt z.B. bei 0,4^∘ Einfallswinkel zur Oberfläche nur 0,1^∘. Die Winkelverteilungen werden mit Monte-Carlo-Computersimulationen im Detail wiedergegeben. Dabei zeigt sich, daß bei sehr kleinen Einfallswinkeln die geschirmte Streuung an Leitungselektronen der bestimmende Aufstreuprozeß ist. Für größere Einfallswinkel dominieren die Vielfachstreuung an thermisch ausgelenkten Atomrümpfen. Bei höheren Energien liefert die Bildkraft wegen einer kinematisch induzierten Augerionisation von He-Atomen einen zusätzlichen Verbreiterungsmechanismus.
Gefördert durch die Deutsche Forschungsgemeinschaft (Projekt Wi1336).