Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 34: Poster (II)

O 34.87: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 20:00–22:30, Bereich C

Erzeugung und Charakterisierung künstlicher Nanostrukturen in SAM mittels Rastersondenmikroskopietechniken — •J. Hartwich, M. Sundermann, U. Kleineberg und U. Heinzmann — Molekül– und Oberflächenphysik, Universität Bielefeld, Universitätsstr. 25, D-33615 Bielefeld

Mittels verschiedener Rastersondenmikroskopie–Verfahren (AFM,
STM) werden Resistfilme aus selbstorganisierten Hexadecanthiol–Monolagen (SAM) lateral strukturiert. Hexadecanthiole (CH₃(CH₂)₁₅SH) bilden spontan auf einer Goldschicht, die auf beliebigen Substraten (z.B. Si) aufgebracht wird, eine orientierte Monolage aus.* Bedingt durch den kleinen Abstand der adsorbierten Kettenmoleküle besitzen diese selbstorganisierten Monolagen das Potential zur Nanostrukturierung. Die mittels STM/AFM erzeugte und naßchemisch in das Goldsubstrat geätzte Struktur wird hinsichtlich der Strukturgenauigkeit mit AFM und STM untersucht. Die Strukturierung der Resistschicht erfolgt mit dem STM durch Spannungspulse oder Abrastern mit erhöhter Gapspannung.

Die Maskenstruktur soll in Mo/Si–Multischichtsysteme mit ∼ 4 nm Einzelschichtdicke mittels reaktivem Ionenätzen (RIE) übertragen werden. Solche Multischichten eignen sich z.B. als hochreflektierende Coatings für Röntgenoptiken.

* Für die Unterstützung bei der SAM–Präperation danken wir der Arbeitsgruppe Prof. Dr. Grunze, Universität Heidelberg.