Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 34: Poster (II)

O 34.89: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 20:00–22:30, Bereich C

Atomlithographie mit Alkalimetallen — •Alexander Grossmann¹ und Theodor W. Hänsch^2,1 — ¹Sektion Physik der Ludwig-Maximilians-Universität München, Schellingstr. 4, D-80799 München — ²Max-Planck-Institut für Quantenoptik, D-85740 Garching

Zwei Verfahren zur Übertragung von lithographisch hergestellten periodischen Alkalimetall-Strukturen in eine Metall- oder Halbleiteroberfläche werden vorgestellt. Rubidium (Rb) aus einem thermischen Atomstrahl wird durch eine Maske auf ein mit Chrom oder Gold beschichtetes Siliziumsubstrat aufgebracht. Die chemische Passivierung einer Monolage Rb auf einem Chromfilm und anschließendes Ätzen ermöglicht eine positive Abbildung der Rb-Struktur in das Substrat. Erfolgt die Deposition von Rb auf eine selbstorganisierende Molekülschicht (SAM), kann ein negatives Abbild der Struktur übertragen werden. Die beiden Verfahren zugrunde liegenden Mechanismen werden diskutiert.