Regensburg 1998 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 34: Poster (II)

O 34.91: Poster

Thursday, March 26, 1998, 20:00–22:30, Bereich C

Herstellung und Charakterisierung dünner metallischer Leiterbahnen mit Konataminationslithographie — •Johannes Kretz¹, Hubert Brückl², Ingolf Mönch¹ und Günter Reiss² — ¹Institut für Festkörper- und Werkstofforschung Dresden, Postfach 270016, D–01171 Dresden — ²Universität Bielefeld, Fakultät Physik, Universitätsstr. 25, D–33615 Bielefeld

Durch Kontaminationslithographie im Rasterelektronenmikroskop können mit geringem Aufwand kohlenstoffhaltige Strukturen beliebiger Form erzeugt werden. Diese eignen sich als Maske bei der Strukturübertragung in verschiedene Metallsysteme mit Ionenstrahlätzverfahren. Mit einem Feldemissionselektronenmikroskop wurden Linien mit Breiten unter 20 nm und sehr geringer Kantenrauhigkeit erzeugt und durch Argon-Ionenstrahlätzen in verschiedene Metalle wie Gold und Gold-Palladium übertragen. Ferner ist es möglich, durch gezielte Strahlsteuerung verschiedene Strukturgeometrien zu schreiben. Das Entfernen der Kontaminationsschicht erfolgt im Sauerstoffplasma. Das elektrische Transportverhalten dieser Nanolinienwurde in Vierpunktmessung über einen Temperaturbereich von 4 K bis Raumtemperatur untersucht.