Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 34: Poster (II)

O 34.95: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 20:00–22:30, Bereich C

Physisorbierte Edelgasmasken zur Strukturierung von Adsorbatschichten — •G. A. Reider¹, P. A. Williams², Leping Li², T. Suzuki³, U. Höfer⁴ und T. F. Heinz⁵ — ¹TU Wien, Abt. Quantenelektronik und Lasertechnik, A-1040 Wien — ²IBM T. J. Watson Research Center, Yorktown Heights, NY 10598, USA — ³RIKEN, Wako-shi, Japan — ⁴Max-Planck-Institut für Quantenoptik, D-85740 Garching — ⁵Dept. of Physics, Columbia University, New York, NY 10027, USA

Die Strukturierung von Adsorbatschichten im Submikrometerbereich ist für eine Reihe von Oberflächenexperimenten, wie zum Beispiel zur Untersuchung von Diffusions- und Wachstumsvorgängen oder zum Studium von Oberflächenreaktionen auf mesoskopischen Skalen, notwendig. Wir haben kürzlich eine sehr flexible Methode entwickelt, die eine präzise Strukturierung der Oberfläche mit stark gebundenen und/oder thermisch instabilen Adsorbaten erlaubt [1]. Eine physisorbierte Edelgasschicht wird teilweise durch laserinduzierte thermische Desorption entfernt und dient dann als Maske, während die Probe mit dem eigentlichen (chemisorbierten) Adsorbat begast wird. Am Beispiel H/Xe/Si(111)7×7 wird demonstriert, wie ein Wasserstoffgitter mit einer Periode von 7 µ m erzeugt und nachgewiesen wird. Es wird ferner diskutiert, wie mit der Methode durch die geignete Wahl des Physisorbats und der Laserparameter Strukturen mit Dimensionen kleiner al 0.5 µ m erhalten werden können.

[1] P. A. Williams et al., Phys. Rev. Lett. 79, 3459 (1997)