Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe
O: Oberflächenphysik
O 8: Epitaxie und Wachstum (I)
Montag, 23. März 1998, 16:15–19:15, H36
![]() |
16:15 | O 8.1 | Selbstorganisation des Wachstums von GaAs Quantendrähten in V-förmigen Gräben — •F. Große, R. Zimmermann, A. Kley und M. Scheffler |
![]() |
16:30 | O 8.2 | Atomare Struktur von Grenzschicht und Oberfläche ultradünner CoSi2-Filme auf Si(111) — •A. Seubert, J. Schardt, W. Weiss, U. Starke und K. Heinz |
![]() |
16:45 | O 8.3 | Zeitaufgelöste Hochtemperatur STM-Untersuchung der Bildung und Phasenumwandlung von Eisensilizid auf Si(111) — •V. Dorna, P. Kohstall und U. Köhler |
![]() |
17:00 | O 8.4 | Growth and Chemical Imaging of CaF2 on Vicinal Si(111)7x7 — •J. Viernow, J.L. Lin, D.Y. Petrovykh, F.K. Men, J. Wollsch"ager, M. Henzler, and F.J. Himpsel |
![]() |
17:15 | O 8.5 | Modifizierung von CaF2-Schichten auf Si(111) durch elektronenstimulierte Fluor-Desorption — •J. Falta, T. Schmidt, A. Hille, A. Klust, J. Viernow und J. Wollschläger |
![]() |
17:30 | O 8.6 | Reaktion von Disilan mit Si(111) und Vorstufen des CVD-Wachstums — •Jürgen Braun, Hubert Rauscher und Rolf Jürgen Behm |
![]() |
17:45 | O 8.7 | Untersuchungen zur aktiven und passiven Oxidation von Si(111) im Rastertunnelmikroskop — •Stefan Hildebrandt, Ralf Kulla, and Henning Neddermeyer |
![]() |
18:00 | O 8.8 | Energetik und Kinetik von Si Dimeren auf Ge(100) — •W. Wulfhekel, B.-J. Hattink, H.J.W. Zandvliet, G. Rosenfeld und Bene Poelsema |
![]() |
18:15 | O 8.9 | Wachstumsuntersuchungen an Ge/Sb/Si(100) — •K. Hinrichs, S. Peters, N. Esser, W. Richter, and J.R. Power |
![]() |
18:30 | O 8.10 | Grenzflächenrauhigkeit von Ge1−yCy/Si-Übergittern auf Si(001) — •P. Sonntag, J. Falta, T. Schmidt, A. Hille, K. Brunner und K. Eberl |
![]() |
18:45 | O 8.11 | Morphologie epitaktischer HgTe(001)-Schichten — •M. Schneider, S. Oehling, H. Neureiter, M. Sokolowski, C.R. Becker, G. Landwehr und E. Umbach |
![]() |
19:00 | O 8.12 |
Van der Waals-Epitaxie dünner Indiumselenidschichten - Nukleation, Wachstum und elektronische Eigenschaften — •E. Schaar-Gabriel, O. Lang, C. Pettenkofer und W. Jaegermann |