Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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SYF: Symposium Fest-Flüssig-Grenzflächen

SYF 2: Fest/Flüssig - Grenzflächen

SYF 2.14: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 20:00–22:30, Bereich C

Veränderung des Oberflächenwiderstandes epitaktischer Silberfilme durch Adsorption von Blei und Chlorid — •Carsten Hanewinkel¹, Dieter Schumacher² und Andreas Otto¹ — ¹Lehrstuhl für Oberflächenwissenschaft (IPkM), Heinrich-Heine-Universität
Düsseldorf, Universitätsstraße 1, 40225 Düsseldorf — ²Physikalische Grundpraktika, Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf, Universitätsstraße 1, 40225 Düsseldorf

Mit abnehmender Schichtdicke eines Metallfilmes gewinnt der Oberflächenwiderstand größeren Anteil am gesamten Widerstand des Filmes. Ag(111)-Filme mit Dicken zwischen 20 und 30nm, epitaktisch auf Si(111)-Substraten gewachsen, dienten als Arbeitselektroden in verschiedenen wässrigen Elektrolyten. In Lösungen schwach adsorbierender Perchloratanionen und kleinen variierenden Anteilen von Bleikationen wurden simultan zeitaufgelöste Messungen des Schichtwiderstandes sowie chronocoulombmetrische Messungen an der Metall-Elektrolyt-Grenzfläche durchgeführt. Der Widerstand steigt monoton als Funktion der Oberflächenbedeckung mit Blei im Submonolagenbereich an. Vorläufige Messungen unter Adsorption von Chlorid zeigen, daß möglicherweise mit der Widerstandsmethode der partielle Ladungstransfer bestimmt werden kann.