Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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SYF: Symposium Fest-Flüssig-Grenzflächen

SYF 2: Fest/Flüssig - Grenzflächen

SYF 2.3: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 20:00–22:30, Bereich C

Elektrochemische Ni Abscheidung auf Ag (111): Eine in-situ STM Studie — •Andreas Lachenwitzer, Sylvie Morin, Olaf Magnussen und Jürgen Behm — Abt. Oberflächenchemie und Katalyse, Universität Ulm, 89069 Ulm

In-situ STM Ergebnisse zur elektrochemischen Abscheidung dünner Nickelfilmen auf Ag (111) aus 10⁻³M NiSO₄ + 10⁻⁴M HCl +10⁻²M H₃BO₃ werden gezeigt. Die Ni-Abscheidung setzt ab einer Überspannung von 160 mV bezogen auf Ni/Ni²⁺ ein. Bei diesem Potential kommt es auf den Terrassen des Ag-Substrats zu Austauschprozessen zwischen Ag-Oberflächenatomen und Ni, die Keimbildung metallischer Ni-Inseln erfolgt jedoch ausschließlich an den Ag-Stufenkanten. Mit zunehmenden Überspannungen werden zunächst Bildung und Multilagenwachstum von Ni-Inseln an der eindimensionalen Ag/Ni-Phasengrenze entlang der Ag-Stufen beobachtet, was zur gleichmäßigen Dekoration der Stufen führt. Bei sehr hohen Überspannungen bilden sich auch auf den Terrassen Ni-Multilageninseln. Die Fehlanpassungen zwischen dem Ni- und Ag-Gitter führt zu einer charakteristischen langreichweitigen Moire-Modulation. Aus der Amplitude dieses Moire-Gitters sowie aus atomar aufgelösten STM-Bildern ergibt sich ein Ni-Ni Abstand, der für Monolagenfilme fast dem des Nickelmassivmetalls entspricht (2.54 Å) und bei >3 ML dessen Wert erreicht (2.49 Å). Ein fast identisches Nukleations- und Wachstumsverhalten wird für Ni auf Ag (111) im UHV beobachtet.