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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 4: Vakuumverfahrenstechnik 1

Dienstag, 24. März 1998, 10:30–12:30, H48

	10:30	VA 4.1	Hauptvortrag: Reaktives Doppelmagnetron-Sputtern zur großflächigen Herstellung optischer Schichtsysteme auf Glas und Folie — •J. Strümpfel und D. Schulze
	11:10	VA 4.2	Hauptvortrag: Vacuum Behaviour of Cathode Ray Tubes, UHV in Your Living Room — •J.-P. Jacobs and D. Dijkamp
	11:50	VA 4.3	Fachvortrag: Restgasanalysen an Röntgenröhren — •L. Koch
	12:10	VA 4.4	Fachvortrag: Turbomolekular-Pumptechnologie in der Bildröhrenfertigung — •A. Ende und D. Urban