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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 5: Vakuumverfahrenstechnik 2

Dienstag, 24. März 1998, 13:30–15:30, H48

	13:30	VA 5.1	Hauptvortrag: Technologie und Equipment zur Züchtung von Silizium-Einkristallen mit Durchmessern von 300 mm und mehr — •B. Altekrüger
	14:10	VA 5.2	Hauptvortrag: 300 mm Wafer - The Challenge in Manufacturing Development for Future Semiconductor Processing — •P. K"ucher and J. R"ustig
	14:50	VA 5.3	Hauptvortrag: Metallisierungskonzepte für innovative integrierte Schaltungen — •A. Klumpp und P. Ramm