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Tue, 10:30–11:00 |
GE1 |
K I: HV I |
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Tue, 11:00–11:30 |
GE1 |
K II: HV II |
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Thu, 10:00–10:30 |
GE1 |
K III: HV III |
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Thu, 10:30–11:00 |
GE1 |
K IV: HV IV |
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Mon, 14:00–15:45 |
GE1 |
K 1: Kurzzeitdiagnostik, Laser- Verfahren |
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Mon, 16:30–18:30 |
GE1 |
K 2: Kurzzeitdynamik (Poster) |
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Mon, 16:30–18:30 |
GE1 |
K 3: Lasersysteme und -Anwendungen (Poster) |
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Tue, 14:00–15:00 |
GE1 |
K 4: Hochleistungs-/Impulssysteme, schnell veränderliche Plasmen |
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Tue, 16:30–18:30 |
GE1 |
K 5: Hochleistungs-/Impulssysteme, pulsformende Elemente und Schalter |
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Thu, 14:00–15:15 |
GE1 |
K 6: Laserstrahl-Wechselwirkungen |
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Thu, 16:30–18:15 |
GE1 |
K 7: Laser-Anwendungen/-Materialbearbeitung |
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