Heidelberg 1999 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

P: Plasmaphysik

P 16: Dichte Plasmen III

P 16.3: Vortrag

Donnerstag, 18. März 1999, 17:15–17:30, CH 2

Extrem ultraviolett (EUV) Strahlungsquelle auf Basis einer gepulsten Gasentladung — •K. Bergmann¹, G. Schriever¹, O. Rosier¹, M. Müller¹, W. Neff² und R. Lebert¹ — ¹Lehrstuhl für Lasertechnik, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen — ²Fraunhofer Institut für Lasertechnik, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen

Für einen technologischen Einsatz von Gasentladungsplasmen als Quellen von extrem ultravioletter (EUV) Strahlung werden Lebensdauern und eine Repetierfähigkeit gefordert, die mit bekannten System wie z.B. der Kapillarentladung nicht demonstriert werden konnten. Bei dem vorgestelltem System kann aufgrund der Geometrie die für Pinchplasmen notwendige räumlich kontrollierte Zündung des Plasmas im Selbstdurchbruch und ohne Kontakt mit der Elektroden- oder Isolatoroberfläche erreicht werden. Dieser Umstand läßt eine Repetierfähigkeit bis zu einigen kHz und entsprechend hohe Lebensdauern erwarten. In einer Entladung von ca. 2J kapazitiv gespeicherter Energie werden Strompulse bis zu einigen kA erzeugt, mit denen eine Kompression und Heizung eines Sauerstoffplasmas auf Elektronendichten und Temperaturen nachgewiesen werden konnte, die zu einer Emission von Beryllium - und Lithium - ähnlichen Ionen in einem technologisch interessanten Spektralbereich um 13 nm führen. In ersten Experimenten konnten in Dauerversuchen ohne Wasserkühlung bereits Wiederholraten über 100 Hz gezeigt werden.