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P: Plasmaphysik

P 16: Dichte Plasmen III

P 16.4: Vortrag

Donnerstag, 18. März 1999, 17:30–17:45, CH 2

Emissionseigenschaften verschiedener Gase eines 2J Pinchplasmas im EUV Bereich — •O. Rosier¹, K. Bergmann¹, G. Schriever¹, M. Müller¹, W. Neff² und R. Lebert¹ — ¹Lehrstuhl für Lasertechnik, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen — ²Fraunhofer Institut für Lasertechnik, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen

Es wird eine hoch repetierfähige, 2J Strahlungsquelle auf Basis eines Pinchplasmas vorgestellt, welches Elektronendichten und Temperaturen aufweist, die zu einer Emission von Strahlung im EUV Bereich führen. Die Komression des Plasmas erfolgt durch gepulste Ströme mit Anstiegszeiten um die 100 ns und Stromamplituden im Bereich einiger kA. Aufgrund des niederinduktiven Aufbaus und dem Verzicht auf ein Schaltelement reichen zur Generation dieser Ströme kapazitiv gespeicherte Energien im Bereich nur weniger Joule aus. Es werden vergleichende Untersuchungen der Emission verschiedener Elemente im Bereich von 10nm bis 20nm vorgestellt, die mit Entladungen von ca. 2J Bankenergie erzeugt wurden. Dabei zeigen die Elemente Sauerstoff, Luft, Argon und Neon ein Spektrum diskreter Linien, während in einer Entladung mit Xenon ein breitbandiges Spektrum beobachtet werden kann. Erste Abschätzungen der Temperaturen und Elektronendichte aus den nachgewiesenen Ionisationsstufen werden vorgestellt.