Heidelberg 1999 – scientific programme

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P: Plasmaphysik

P 20: Diagnostik (Poster)

P 20.18: Poster

Monday, March 15, 1999, 16:30–19:00, PY

Messungen der Elektronendichte in der Mikrowellen-Plasmaquelle SLAN mit der Plasmaoszillationsmethode — •A. Schwabedissen, Ch. Soll, A. Brockhaus und J. Engemann — Forschungszentrum für Mikrostrukturtechnik-fmt, Bergische Universität GH Wuppertal, Obere Lichtenplatzer Str. 336, 42287 Wuppertal

Die absolute Elektronendichte im Downstream-Bereich einer 2.45 GHz Mikrowellen-Plasmaquelle SLAN ist mit der Plasmaoszillationsmethode bestimmt worden. Bei der Plasmaoszillationsmethode wird ein schwacher Elektronenstrahl in das Plasma injiziert. Dieser Elektronenstrahl regt oberhalb eines Schwellwertes aufgrund einer Zweistrahl-Instabilität eine Plasmaschwingung an, deren Frequenz sehr nahe der (Elektronen-) Plasmafrequenz liegt. Detektiert man diese Frequenz mittels einer Antenne im Plasma, so erhält man unmittelbar die Elektronendichte, da die Plasmafrequenz proportional zur Wurzel der Elektronendichte ist. Ein Vergleich der Ergebnisse der Plasmaoszillationsmethode mit Langmuirsondenmessungen ergibt eine befriedigende Übereinstimmung für Ar und Ar:O₂ Gasgemische. Weiterhin werden Ergebnisse der Plasmaoszillationsmethode in beschichtenden Plasmen (Ar:O₂:HMDSO) vorgestellt, in denen Langmuirsondenmessungen aufgrund von dielektrischen Schichten auf der Sondenoberfläche bereits bei sehr geringem HMDSO Partialdruck verfälscht werden.