P 21: Plasmatechnologie (Poster)
Montag, 15. März 1999, 16:30–19:00, PY
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P 21.1 |
Der Einfluss von He auf die physikalischen und chemischen Eigenschaften dielektrisch behinderter Entladungen — •H.-E. Wagner , K. V. Kozlov und P. Michel
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Orts- und zeitaufgelöste TALIF- Messungen an atomarem Stickstoff in einer dielektrisch behindertenEntladung — •M. Spaan und H.F. Döbele
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P 21.3 |
CARS-Messung an feuchten Abgasen in einem Mikrowellenplasma — •J. Ehlbeck und E. Pasch
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P 21.4 |
Investigation on the Afterglow of a Surface Wave Sustained Discharge in Nitrogen — •D. Douai, J. Berndt, and J. Winter
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P 21.5 |
Infrarot- und Massenspektrometrie an einer kapazitiven HF-Entladung in Methan-Argon-Gemischen — •G. Himmel, G. Mümken und J. Winter
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P 21.6 |
Studies of Oxide Etching Processes in Different Fluorocarbon Plasmas — •Harald H. Richter, Andre Wolff, Dietmar Krueger, and Rainer Barth
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P 21.7 |
Einfluss der Prozessparameter auf die Wachstumskinetik von HMDSO-Plasmapolymerschichten — •Konstantin Li und Jürgen Meichsner
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P 21.8 |
Plasmainduzierte chemische Mikrostrukturierung von Polymeroberflächen — •A. Ohl, K. Schröder, D. Keller und A. Meyer-Plath
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P 21.9 |
Permeationshemmende Eigenschaften von dünnen Plasmapolymerschichten — •Jochen Feichtinger, Klaus-Martin Baumgärtner, Mathias Kaiser, Andreas Schulz, Matthias Walker und Eberhard Räuchle
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P 21.10 |
Plasmodul - Ein modulares Plasmasystem — •Andreas Schulz, Klaus-Martin Baumgärtner, Jochen Feichtinger, Mathias Kaiser, Matthias Walker und Eberhard Räuchle
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P 21.11 |
Infrarot-Absorptionsspektroskopie an der dielektrisch behinderten Entladung — •I. Vinogradov, M. Schmidt und A. Lunk
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