Heidelberg 1999 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

P: Plasmaphysik

P 21: Plasmatechnologie (Poster)

P 21.7: Poster

Montag, 15. März 1999, 16:30–19:00, PY

Einfluss der Prozessparameter auf die Wachstumskinetik von HMDSO-Plasmapolymerschichten — •Konstantin Li und Jürgen Meichsner — Universität Greifswald, Institut für Physik, Domstrasse 10a, D-17489 Greifswald

Die experimentellen Untersuchungen erfolgten in einer asymmetrischen, kapazitiv gekoppelten 13,56 MHz-Entladung im Druckbereich zwischen 10 und 100 Pa und bis zu 100 W Leistung. Das Schichtwachstum wurde mit einem in situ Ellipsometer, die Stoffwandlung durch Massenspektrometrie untersucht. Die Wachstumskinetik von Plasmapolymerschichten wird bei vorgegebener Entladungsgeometrie und Gasführung stark von den Prozessparametern Monomergasdruck und Leistung beeinflusst. Die Druckabhängigkeiten der Wachstumsrate zeigen für verschiedene Leistungen ein ausgeprägtes Maximum, während bei konstantem Druck die Wachstumsrate mit der Leistung zunächst stark ansteigt und dann in ein Plateau mündet. Letzteres entsteht durch starke Fragmentierung und plasmachemischer Stoffumwandlung der Monomermoleküle sowie durch Konkurrenz zwischen Beschichtungs- und Ätzprozessen.

Für das Schichtwachstum wird ein makroskopisches Modell vorgestellt. Der Vergleich der experimentellen und simulierten Ergebnisse zeigt, dass der Ionenpolymerisations-Mechanismus das Schichtwachstum bei kleinen Leistungen bestimmt.