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Q: Quantenoptik
Q 34: Atomoptik II
Q 34.6: Vortrag
Donnerstag, 18. März 1999, 15:30–15:45, PH5
Atomlithographie mit metastabilen Neonatomen — •P. Engels, S. Salewski, K. Sengstock und W. Ertmer — Institut für Quantenoptik, Universität Hannover, Welfengarten 1, 30167 Hannover
Atomstrahlen aus metastabilen Edelgasatomen lassen sich durch Anwendung verschiedener atomoptischer Elemente zur Erzeugung von Nanostrukturen einsetzen. In unserer Arbeitsgruppe steht hierfür ein langsamer, ultrakalter und brillianter Ne*-Strahl mit mehr als 1014 Atomen/sr s und einer longitudinalen Geschwindigkeit von 30 m/s zur Verfügung. Die verschiedenen atomoptischen Elemente zur Strahlpräparation werden vorgestellt und Methoden zur Übertragung periodischer Muster in geeignet vorpräparierte Substrate aufgezeigt. Als Substrate werden u.a. SAM-Schichten (Self-Assembled Monolayers) auf Si verwendet, auf deren Wachstumsverhalten genauer eingegangen wird. Der aktuelle Stand des Experimentes und zukünftige Pläne werden vorgestellt.
Gefördert durch die DFG.