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Q: Quantenoptik

Q 39: Poster: Atomoptik

Q 39.2: Poster

Thursday, March 18, 1999, 16:30–18:30, PH

Präparation eines Indium-Atomstrahls für die Atomlithographie — •H. Leinen, J. Clevorn, D. Haubrich und D. Meschede — Institut für Angewandte Physik, Universität Bonn

Die Atomstrahl-Lithographie ermöglicht unter Verwendung von optischen Stehwellenfeldern die direkte Deposition von 2-dimensionalen, periodischen Strukturen. Durch die Elementselektivität dieses Verfahrens läßt sich die Anwendung auf die dritte Dimension erweitern, indem man zusätzlich einen zweiten Atomstrahl eines anderen Elements einsetzt. Eine interessante Anwendung dieser Technik ist die Herstellung von photonischen Kristallen. In diesen werden aufgrund der periodischen Variation des Brechungsindex photonische Bandlücken erwartet.

Um den Kontrast der erzeugten Strukturen zu vergrößern, muß der Atomstrahl zuvor transversal kollimiert werden. Die Anwendung von spontanen Lichtkräften zur Reduktion der Divergenz erfordert einen geschlossenen atomaren Übergang. Im Falle des Indiums ist die Präparation dieses Übergangs durch optisches Pumpen aus dem Grundzustand notwendig.

In diesem Beitrag berichten wir über den Aufbau und die Präparation eines Indium-Atomstrahls. Die für das Experiment benötigten Laserquellen mit Emissionswellenlängen λ = 410 nm und 325 nm werden durch Frequenzverdopplung von Diodenlasern realisiert.