Heidelberg 1999 – wissenschaftliches Programm

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SYAO: Symposium Angewandte Optik

SYAO IV: HV IV

SYAO IV.1: Hauptvortrag

Freitag, 19. März 1999, 11:45–12:15, PH1

Optische Mikroskopie mit ’sub - 0.1λ Auflösung’ — •G. Vollrath — Leica Mikroskopie und Systeme GmbH, Wetzlar

In der Halbleiterindustrie ist die Entwicklung zur Erzeugung von ständig kleineren Strukturen mittels der optischen Lithografie ungebrochen. Aktuelle Abschätzungen sehen die kleinsten optisch erzeugbaren Strukturbreiten bei etwa 0.07 µm. Auch die Mikroskopie muß für die Inspektion und Vermessung damit Schritt halten. Ansätze dazu sind: Abbildung bei kürzeren Wellenlängen bis unter 200 nm, Nutzung des Konfokalprinzips für höheren Bildkontrast, die Photonentunnelmikroskopie als Anwendung einer Festkörperimmersion für Numerische Aperturen > 1 und last not least unter dem Schlagwort Superresolution die Messung von Intensität und Phase und die softwaremäßige Bildaufbereitung unter Nutzung von a priori Informationen über das Objekt. Es werden aktuelle Entwicklungen und erste Ergebnisse dazu vorgestellt und die möglichen Auflösungsgrenzen der optischen Mikroskopie diskutiert.