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SYCF: Symposium Cluster und Fullerene

SYCF 9: Cluster an Oberfl
ächen

SYCF 9.5: Vortrag

Freitag, 19. März 1999, 12:30–12:45, PA1

Leitfähigkeitsmessungen an deponierten Metallclustern — •A. Bettac, R.-P. Mayer, K.-L. Jonas, V. Rank und K.H. Meiwes-Broer — Fachbereich Physik, Universität Rostock, 18051 Rostock

Die Größenabhängigkeit der elektronischen Struktur metallischer Cluster läßt sich mit einer Reihe von etablierten Methoden wie z.B. Photoelektronenspektroskopie oder Pump-Probe-Experimenten erschließen. Will man derartige elektronische Eigenschaften z.B. in der Mikroelektronik technisch nutzen, ist es notwendig, die Cluster auf Oberflächen zu deponieren oder in einem Medium einzubetten. Hierbei können sich aufgrund der Adsorbat-Substrat-Wechselwirkungen erhebliche Änderungen in der elektronischen Natur des Clusters ergeben. Eine Methode, ein derartiges Cluster-Oberflächen-System hinsichtlich seines geometrischen und elektronischen Verhaltens zu untersuchen, ist die Rastertunnelmikroskopie bzw. -spektroskopie (STM/STS). Wir berichten über STM und STS-Messungen an Platinclustern, die in einer PACIS (Pulsed Arc Cluster Ion Source) erzeugt und unter Soft-Landing-Bedingungen auf einer Graphitoberfläche deponiert wurden.

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