Münster 1999 – wissenschaftliches Programm
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AM: Magnetismus
AM 16: Oberfl
ächenmagnetismus I
AM 16.7: Vortrag
Donnerstag, 25. März 1999, 11:45–12:00, F5
Antiferromagnetische Kopplung in ultraduennen Co/Cu/Co-Trilagen — •Jochen Barthel1, Min Zheng2, Jian Shen3, Chakka Mohan4, Philippe Ohresser5 und Juergen Kirschner1 — 1MPI Halle — 2Lincoln, Nebraska — 3Oak Ridge — 4Baton Rouge — 5ESRF Grenoble
Der Riesenmagnetwiderstandseffekt in Co/Cu-Multischichten stellt sich nur bei geeigneter Wahl der Dicke der unmagnetischen Zwischenschicht, wenn die einzelnen Co-Lagen antiferromagnetisch koppeln. Diese Dicke betraegt fuer Cu 4 Monolagen. Bei der Schichtabscheidung auf Cu(111)-Substraten mittels thermischer Verdampfung herrscht dreidimensionales Wachstum, so dass Co-Schichten zwischen 0 und 10 ML nicht geschlossen aufwachsen. Ab 4 Monolagen bilden sich bereits fcc-hcp-Stapelfehler aus. Die nachfolgende Cu- Abscheidung kann die rauhe Co-Morphologie nicht glaetten, so dass es in der Multischicht zur Perkolation der Co-Lagen untereinander kommt. Das fuehrt zum magnetischen Kurzschluss, wodurch die Kopplung zwischen den Lagen ferromagnetisch wird. Die hohe Keimdichte bei der extrem hohen Uebersaettigung waehrend einer lasergestuetzten Abscheidung zwingt das Co in den metastabilen Zustand des Lagenwachstums. Derartige Trilagen Co/Cu/Co auf Cu(111) zeigen eine antiferro- magnetische Kopplung.