Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

CP: Chemische Physik

CP 33: Poster: Dynamik molekularer Systeme

CP 33.10: Poster

Montag, 22. März 1999, 18:00–20:00, R52/R72

Lochbrennen am System Zn-TBP in PMMA. Die verschiedenen Lochbrennmechanismen und ihre kinetischen Besonderheiten. — •J. Müller¹, O.V. Khodykin¹, J. Beier¹, W. Richter¹, D. Haarer¹ und B.M. Kharlamov² — ¹Physikalisches Institut, Universität Bayreuth, 95440 Bayreuth — ²Institute of Spectroscopy, Russian Academy of Sciences, Troitzk, Russia

Mit der Methode des spektralen Lochbrennens wird die Dynamik von Tunnelsystemen in Polymergläsern untersucht. Es werden Meßergebnisse vorgestellt, die an Zn-TBP – dotiertem Polymethylmethacrylat (PMMA) bei einer Temperatur von 3 K gewonnen wurden.

Das verwendete System zeichnet sich durch die Existenz zweier verschiedener Lochbrennmechanismen aus. Der transiente Charakter der Farbstoffanregung ermöglicht die Messung der Spektralen Diffusion im Mikrosekundenbereich. Zusammen mit dem persistenten Lochbrennprozeß ergibt sich so ein Vergleich zwischen Photon-Echo–Experimenten und der Lochbrennspektroskopie.

Dieser zweite, nicht–photochemische Lochbrennprozeß zeigt eine Reihe kinetischer Besonderheiten. Die minimale Lochbreite ist niedriger als auf kurzen Zeitskalen und hängt empfindlich von der eingestrahlten Brennenergie ab. Hinzu kommt eine leistungsabhängige Quantenausbeute und eine frühe Sättigung der Triplett-Anregung.