Münster 1999 – scientific programme

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CP: Chemische Physik

CP 4: Symposium: Benetzung und dünne Filme

CP 4.2: Fachvortrag

Monday, March 22, 1999, 16:45–17:15, Phy

Eigenschaften und Anwendungen selbstaggregierender Thiolmonolagen — •Manfred Buck — Lehrstuhl für Angewandte Physikalische Chemie, Universität Heidelberg, Im Neuenheimer Feld 253, D-69120 Heidelberg

Die Kombination dreier Eigenschaften – einfache Präparation, die Möglichkeit über die Modifikation der molekularen Struktur Oberflächeneigenschaften maßzuschneidern und die Strukturierung bis in den Nanometerbereich – machen selbstaggregierende Monolagen (SAM) aus Thiolen für eine Reihe von Anwendungen attraktiv z.B. im Bereich des Korrosionsschutzes, der Sensorik oder der Lithographie.

Voraussetzung für den erfolgreichen Einsatz dieser Schichten ist jedoch eine Optimierung ihrer Eigenschaften und damit verbunden die genaue Kenntnis bzw. Kontrolle der eigenschaftsbestimmenden Faktoren. Wechselwirkungen der Thiolmoleküle untereinander, zum Substrat und mit der Umgebung machen Thiol-SAMs zu komplexen Systemen und derzeit existiert noch kein generelles Konzept, die Struktur und damit die Eigenschaften eines SAMs anhand der molekularen Struktur vorhersagen zu können. Anhand ausgewählter Beispiele werden die unterschiedlichen Faktoren diskutiert, wobei insbesondere auf den für Anwendungen wichtigen Aspekt der Wechselwirkung der Filme mit Flüssigkeiten eingegangen wird.