Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 15: Plasma- und Ionentechniken II

DS 15.4: Fachvortrag

Dienstag, 23. März 1999, 15:45–16:00, H 55

Herstellung von Ti-Schichten mittels Vakuumlichtbogenabscheidung — •Boris Straumal¹, Nikolay Vershinin², Regis Dimitriou³ und Wolfgang Gust¹ — ¹Institut für Metallkunde, Seestr. 92, 70174 Stuttgart — ²SONG Ltd., P.O. Box 98, Chernogolovka, Moscow District= , 142432 Ru=DFland — ³Institute of Solid State Physics, Chernogolovka, Moscow District, 142432 Ru=DFland

Die Vakuumlichtbogenabscheidung (vacuum arc deposition) ist ein neues Verfahren=20 zur Herstellung von dünnen Schichten, das sich prinzipiell von dem üblichen=20 Magnetron-Sputtering unterscheidet. Die Anwendung dieser Abscheidungs= - methode ist von gro=DFem technologischen Interesse. Es wurde die=20 Abscheidungsgeschwindigkeit von Ti und die Obeflächenrauhigkeit in Abhängigkeit=20 vom Entladungsstrom und Abstand zwischen Probe und Ti-Kathode gemesse= n.=20 Die gewonnenen Ergebnisse werden mit experimentellen Daten zur Vakuumlichtbogenabscheidung von Mo verglichen Die Arbeit wurde mit finanzieller Unterstützung des BMBF-TRANSFORM-Programms, des INCO-Copernicus=20 Netzwerks und dem NATO-Linkage-Grant durchgeführt.