Parts | Days | Selection | Search | Downloads | Help
DS: Dünne Schichten
DS 17: Charakterisierung mittels SXM-Techniken II
DS 17.1: Fachvortrag
Tuesday, March 23, 1999, 11:15–11:30, PC 7
Kalibrierstandard zur Charakterisierung von SNOM-Sensoren — •A. Vollkopf, O. Rudow und E. Oesterschulze — Universität Gesamthochschule Kassel, Institut für Technische Physik, Heinrich-Plett-Strasse 40, 34109 Kassel
Die Interpretation der mit einem Raster-Nahfeld-Mikroskop generierten
Ergebnisse erfordert die Kenntnis der optischen
Übertragungseigenschaften des jeweiligen Sensors.
Während Untersuchungen im REM lediglich eine Abschätzung etwa der
Aperturgröße zulassen, erlauben Fernfeld-Untersuchungen die
Abstrahlcharakteristik des Sensors zu vermessen, um somit z.B. im Falle
des Apertursensors auf Form und Größe der Apertur zu schließen.
Dahingegen ermöglicht ein Kalibrierstandard, die optische Transmission
des Sensors direkt in dessen Nahfeld zu messen, um anschließend aus dem
gewonnenen optischen Signal, das durch eine Faltung zwischen Sensor
und Standard entsteht, die Größe der Apertur zu berechnen.
Dies gelingt um so genauer, je exakter die Struktur des Standards definiert
ist.
Im Rahmen dieses Beitrages soll ein auf der Basis der etablierten
Silizium-Mikrosystem-Technologie entwickelter Standard vorgestellt werden,
der solche definierte Strukturen aufweist. Ziel ist es, mit
Hilfe dieser Teststruktur Aperturgrößen mit einer Genauigkeit im Bereich von
10 nm zu bestimmen.