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DS: Dünne Schichten
DS 2: Ionenimplantation II
Montag, 22. März 1999, 11:00–12:00, PC 7
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11:00 | DS 2.1 | Fachvortrag: Electrical conductivity in ion implanted TiO2 single crystals — •R. Fromknecht, O. Meyer, I. Khubeis, and S. Massing |
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11:15 | DS 2.2 | Fachvortrag: Tin implanted in rutile single crystals: lattice location and the influence of the analyzing He-beam — •R. Fromknecht, O. Meyer, and I. Khubeis |
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11:30 | DS 2.3 | Fachvortrag: Periodische Strukturen und selbst-affine Topographien auf Graphitoberflächen nach Ionenstrahlerosion — •S. Habenicht, W. Bolse, K.P. Lieb und U. Geyer |
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11:45 | DS 2.4 | Fachvortrag: Retention und Emission von Stickstoff während der Implantation niederenergetischer Stickstoffionen in AISI 316 SS — •S. Parascandola, O. Kruse und W. Möller |