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DS: Dünne Schichten

DS 33: Postersitzung

DS 33.14: Poster

Dienstag, 23. März 1999, 09:30–17:30, Aula

Untersuchungen zur Aufskalierung der Prozeßbedingungen für die Abscheidung von kubischem Bornitrid — •M. Hock, A. Neuffer und A. Lunk — Institut für Plasmaforschung, Universität Stuttgart, Pfaffenwaldring 31, 70569 Stuttgart

Das Prozeßfenster für die plasmaaktivierte Abscheidung von kubischem Bornitrid (c-BN) ist abhängig vom Verhältnis Ionenstromdichte/Borflußdichte und der Ionenenergie. In einer großvolumigen Beschichtungseinrichtung wird neben der Einhaltung der Bedingungen des Prozeßfensters eine konstante Beschichtungsrate bei der Rotation der Substrate angestrebt.
Das Verhältnis der Flußdichten Ionen/Boratome auf das Substrat bei bekannter Ionenenergie und die Beschichtungsrate ist stark ortsabhängig. Diese Größen werden in Abhängigkeit von den äußeren Parametern Stromstärke, Gesamtdruck und Gaszusammensetzung untersucht. Die Flußdichten der Ionen auf das Substrat ergeben sich aus Messungen der Plasmaparameter mit der Langmuirsonde. Der Fluß der Boratome ergibt sich aus der Beschichtungsrate. Eine Modellierung der gemessenen Größen ergibt Bereiche, in dem c-BN - Wachstum bei annähernd konstanter Beschichtungsrate möglich ist.