Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 33: Postersitzung

DS 33.9: Poster

Dienstag, 23. März 1999, 09:30–17:30, Aula

Untersuchungen von im Mikrowellenplasma behandelten Al-Filmen mit GIXR und GIXRD — •Antje Quade und Harm Wulff — EMAU Greifswald, Institut für Chemie, Soldtmannstrasse 23, 17489 Greifswald

Dünne Aluminium-Filme (30-50 nm) wurden in verschiedenen Mikrowellenplasmen (Ar, O₂, Ar/O₂) bei 800-1000 W behandelt. Auf diese Weise konnte zusätzlich zur natürlichen Oxidhaut eine Oxidschicht erzeugt werden. Die Eigenschaften der Oxidschichten, wie Dicke, Rauhigkeit und Dichte wurden mittels GIXR untersucht. Mit Hilfe von GIXRD und XPS konnten Aussagen zur chemischen Zusammensetzung getroffen werden. Die Oberflächenbeschaffenheit der Proben wurde mit AFM analysiert. Es wird gezeigt, daß die Plasmaoxidation einen Dicken- und Dichtenzuwachs des oberen Oxidfilms bewirkt sowie einen Glättungseffekt auf die Schichten ausübt, dessen Stärke abhängig von der Art des Plasmas ist.