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HL: Halbleiterphysik
HL 10: Amorphe Halbleiter
Monday, March 22, 1999, 17:30–19:00, H3
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17:30 | HL 10.1 | Einfluß von Wasserstoff auf die laserinduzierte Kristallisierung von a-Si:H Schichten — •P. Lengsfeld und N. Nickel |
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17:45 | HL 10.2 | Rauschuntersuchungen an amorphem hydrogenisiertem Silizium — •S. T. B. Goennenwein, M. S. Brandt und M. Stutzmann |
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18:00 | HL 10.3 | Rekombination über flache, lokalisierte Zustände in mikrokristallinem Silizium (µc-Si:H). Eine ESR, EDMR und ODMR Studie. — •Peter Kanschat, Klaus Lips und Walther Fuhs |
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18:15 | HL 10.4 | Lichtemittierende Dioden auf der Basis amorpher Silizium-Suboxide — •Rainer Janssen, Andreas Janotta und Martin Stutzmann |
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18:30 | HL 10.5 | Stimulierte Emission in amorphen Silizium-Suboxiden (a-SiOx:H) — •Andreas Janotta, Rainer Janssen, Lutz Höppel, Mike Kelly und Martin Stutzmann |
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18:45 | HL 10.6 | Elektronische Eigenschaften von nanokristallinem Silizium aus Hot-Wire Deposition — •Rudolf Brüggemann, Jean-Paul Kleider und Christophe Longeaud |