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Münster 1999 – scientific programme

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HL: Halbleiterphysik

HL 10: Amorphe Halbleiter

Monday, March 22, 1999, 17:30–19:00, H3

17:30 HL 10.1 Einfluß von Wasserstoff auf die laserinduzierte Kristallisierung von a-Si:H Schichten — •P. Lengsfeld und N. Nickel
17:45 HL 10.2 Rauschuntersuchungen an amorphem hydrogenisiertem Silizium — •S. T. B. Goennenwein, M. S. Brandt und M. Stutzmann
18:00 HL 10.3 Rekombination über flache, lokalisierte Zustände in mikrokristallinem Silizium (µc-Si:H). Eine ESR, EDMR und ODMR Studie. — •Peter Kanschat, Klaus Lips und Walther Fuhs
18:15 HL 10.4 Lichtemittierende Dioden auf der Basis amorpher Silizium-Suboxide — •Rainer Janssen, Andreas Janotta und Martin Stutzmann
18:30 HL 10.5 Stimulierte Emission in amorphen Silizium-Suboxiden (a-SiOx:H) — •Andreas Janotta, Rainer Janssen, Lutz Höppel, Mike Kelly und Martin Stutzmann
18:45 HL 10.6 Elektronische Eigenschaften von nanokristallinem Silizium aus Hot-Wire Deposition — •Rudolf Brüggemann, Jean-Paul Kleider und Christophe Longeaud
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