Münster 1999 – scientific programme

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HL: Halbleiterphysik

HL 28: Symposium: Alternative Nanostrukturen

HL 28.2: Fachvortrag

Thursday, March 25, 1999, 11:15–12:00, H1

Lithographie mit Rasterkraftmikroskopen: Ein neues Verfahren zur Herstellung von abstimmbaren Halbleiter-Nanostrukturen — •Thomas Heinzel¹, Ryan Held², Silvia Lüscher², Klaus Ensslin² und Werner Wegscheider² — ¹Labor für Festkörperphysik,ETH Hönggerberg,8093 Zürich, Schweiz — ²Walter Schottky Institut, TU München, 85748 Garching, Deutschland

Bereits seit einigen Jahren werden Rasterkraftmikroskope (AFM) auch zur Modifikation von Oberflächen eingesetzt. Nanostrukturen können auf verschiedene Weise mit einem AFM hergestellt werden. Besonders vielversprechend ist die sogenannte lokale anodische Oxidation, bei welcher eine Probe in unmittelbarer Nähe der AFM-Spitze oxidiert wird. Es wird in diesem Vortrag über Herstellung und Charakterisierung durch Tieftemperatur-Transportmessungen von typischen Halbleiter-Nanostrukturen, wie z.B. Quantenpunktkontakten oder Quantenpunkten, mittels lokaler anodischer Oxidation berichtet. Sich ergebende neue Möglichkeiten sowie Vor-und Nachteile werden im Vergleich mit Standardverfahren diskutiert.