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HL: Halbleiterphysik

HL 28: Symposium: Alternative Nanostrukturen

HL 28.3: Fachvortrag

Donnerstag, 25. März 1999, 12:00–12:45, H1

Lithographie mit neutralen Atomen — •T. Pfau, B. Brezger, T. Schulze, R. Mertens und J. Mlynek — Universität Konstanz, Fach M 696, 78457 Konstanz

Die Lithographie mit neutralen Atomstrahlen [1] bietet insbesondere beim parallelen Schreiben periodischer Strukturen eine interessante Alternative zu konventionellen Lithographieverfahren. Wir stellen unsere Experimente an einem durch Laserkühlverfahren kollimierten Chromstrahl vor, mit dem großflächig Linien- und verschiedene zweidimensionale Strukturen mit sub 100 nm Periodizität erzeugt werden. Dabei werden verschiedene stehende Lichtfelder als Phasenmasken für die atomare Schwerpunktsbewegung eingesetzt. Die Periodizität der Strukturen kann unter Ausnutzung der magnetischen Eigenschaften der Atome ein Achtel der verwendeten Lichtwellenlänge von 425 nm betragen.

Wir diskutieren als mögliche Anwendungen dieser Lithographietechnik die Erzeugung von Materialien mit einer photonischen Bandlücke oder einer strukturierten Dotierung.

[1] D. Haubrich, D. Meschede, T. Pfau, J. Mlynek, Phys. Blätt. 53, 523 (1997)