Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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M: Metallphysik

M 12: Amorphe Metalle I

M 12.10: Vortrag

Dienstag, 23. März 1999, 13:00–13:15, S 9

Herstellung stark überstöchiometrischer einpahsiger LaNi_5+x
(1 ≤ x ≤ 4) Schichten mit dem Ionenstrahl-Sputterverfahren — •M. Hirscher¹, F. Cuevas^1,2, B. Ludescher¹ und H. Kronmüller¹ — ¹MPI für Metallforschung, Heisenbergstr.1, 70569 Stuttgart — ²Dpto. Fisica de Materiales, Universidad Autonoma de Madrid, Spain

Kristalline einphasige LaNi_6,1 und LaNi_9.2 Schichten mit hexagonaler TbCu₇-Struktur wurden mit Hilfe des Ionenstrahl-Sputterverfahrens hergestellt. Dabei wurden Schichten mit einer Dicke von 1,2 µm auf Saphir- und Glassubstraten, die auf 600 K geheizt waren, abgeschieden. Zur Beschichtung wurde ein Mosaiktarget aus Ni und La verwendet. Röntgenbeugungsmessungen und Elektronenmikroskopieuntersuchungen ergaben eine lineare Abhängigkeit der Gitterparameter der hexagonalen Struktur von der Ni-Konzentration. Hieraus kann auf eine statistische Substitution von La-Atomen durch Ni-Hantelpaare in der geordneten CaCu₅-Struktur geschlossen werden. Weiterhin zeigen die Schichten eine starke Textur mit der c-Achse parallel zur Substratebene, welche durch die Ni-Hantelpaare induziert sein könnte.

Die Rolle dieser metastabilen Phase in bezug auf die Herstellung neuartiger Wasserstoffspeichermaterialien wird diskutiert.