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Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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M: Metallphysik

M 20: Amorphe Metalle II

M 20.1: Vortrag

Donnerstag, 25. März 1999, 10:15–10:30, S 8

Diffusion in amorphem NiZrAl — •Stefan Flege und Horst Hahn — FB Materialwissenschaft, TU Darmstadt

In Dünnschichtproben des amorphen Systems

NixZryAlz wurde mit Hilfe der

Sekundärionenmassenspektrometrie der

Diffusionskoeffizient von Fremdatomen in Abhängigkeit

von der Al-Konzentration und der Größe des

Traceratoms gemessen. Dabei zeigt sich gegenüber der

binären Legierung NiZr ein starker Rückgang des

Diffusionskoeffizienten insbesondere kleiner Atome wie

Kobalt und Kupfer beim Erreichen einer Zusammensetzung

von etwa Ni1Zr3Al1; die Aktivierungsenthalpie

Q hingegen steigt in diesem Bereich signifikant an.

Daneben werden erste Ergebnisse zur Untersuchung der

Größenabhängigkeit der Tracerdiffusion

oberhalb der Glasübergangstemperatur Tg vorgestellt.

Dazu ist im gewählten System Ni25Zr60Al15

geeignet mit einer Temperaturspanne von über 70 K

zwischen Tg und der Kristallisationstemperatur Tx.

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