Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 23: Epitaxie und Wachstum (III)

O 23.13: Vortrag

Mittwoch, 24. März 1999, 17:30–17:45, S2

Temperatur- und substratabhängige Wachstumsuntersuchung von Yttrium — •B. Krause, K. Theis-Bröhl und H. Zabel — Institut für Experimentalphysik / Festkörperphysik, Ruhr-Universität Bochum, 44780 Bochum

In einer temperaturabhängigen Meßreihe wurde die Struktur von epitaktischen Y-Filmen auf verschieden orientierten Nb- sowie auf Fe(100)-Buffern mit dem Ziel untersucht, die Schichtqualität zu optimieren. Die Herstellung dieser Schichten erfolgte mittels Molekularstrahlepitaxie. Als Substate kamen unterschiedlich orientierte Saphiroberflächen zum Einsatz. Bei den Untersuchungen konnte eine stark substrat- und temperaturabhängige Oberflächenmorphologie nachgewiesen werden. Dies konnte anhand von in in situ RHEED-Messungen festgestellt werden. Ex situ ließen sich diese Ergebnisse sowohl durch AFM- als auch durch Röntgenmessungen bestätigen. Beobachtet man beim Y(0001) Wachstum auf Nb(110) eine glatte Oberfläche und eine hervorragende Kristallquaität, tritt dagegen beim Y-Wachstum auf Nb(100) und Nb(211) eine starke Facettierung auf.