Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe
O: Oberflächenphysik
O 30: Teilchen und Cluster (II)
O 30.4: Vortrag
Donnerstag, 25. März 1999, 15:15–15:30, S1
Clustersputtern: Bearbeiten und Polieren mittels Nanosandstrahlen — •Eva Oettinger, Davor Stolcic und Gerd Ganteför — Fakultät für Physik, Universität Konstanz, 78457 Konstanz
Das Sputtern mit Atomionen ist eine der Standardmethoden der
Oberflächenbearbeitung. Es gibt Hinweise /1,2/ darauf, dass bei einer
Verwendung von grösseren Teilchen mit mehreren
Nanometern Durchmesser (Clustern) höhere
Abtragsraten und eine zusätzliche Glättung erreicht werden können.
Zum systematischen Studium dieser Effekte haben wir eine
intensive Clusterionenquelle aufgebaut und präsentieren erste
Ergebnisse der Oberflaechenbearbeitung.
/1/ W.Henkes, B.Krevet, J.Vac.Sci.Technol. A 13(4), 2133(1995)
/2/ T.Yamaguchi et al., Nucl.Instr. and Meth. B 99, 237(1995)
/3/ J.Matsuo et al., Nucl.Instr. and Meth. B 121, 495(1997)