Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 36: Poster (II)

O 36.16: Poster

Donnerstag, 25. März 1999, 20:00–22:30, Zelt

Untersuchung der Clusterbildung von Chrom auf nanostrukturiertem Al₂O₃/NiAl (100) Oberfläche — •Javier Méndez^1,2 und Horst Niehus¹ — ¹Institut für Physik, Oberflächenphysik und Atomstoßprozesse, Humboldt-Universität zu Berlin, Invalidenstraße 110, Berlin D-10115 Germany — ²Laboratorio de Nuevas Microscopías, Departamento de Física de la Materia Condensada, Universidad Autónoma de Madrid, E-28049 Spain

Die Oxidation der NiAl(100)-Oberfläche führt zur Bildung von dünnen geordneten Al₂O₃-Streifen mit verschiedenen Sauerstoff-Aluminium Phasen zwischen den Streifen [1]. Auf partiell oxidierten Al₂O₃ Oberflächen wurde Chrom aufgedampft. Die Bildung von Chromclustern auf diesen Oberflächen wurde mit Rastertunnelmikroskopie (STM) und Rastertunnelspektroskopie (STS) untersucht. Die nach dem Aufdamfen von Cr entstehenden Cluster sind vorzugsweise auf den Oxidstreifen angeordnet und zeigen eine mittlere Größe von ∼3nm. Nach jeweils sorgfältiger Reinigung der STM Spitze mittels in situ Ar⁺ Sputtern konnten reproduzierbar lokal aufgelöste I/V Spektren aufgenommen werden. Während die reine NiAl Fläche ein metallisches Verhalten zeigt, sind die Al₂O₃ Bereiche durch eine diodenartige Kennlinie ausgezeichnet. Nach Aufdampfen von Chrom zeigen die Cluster in den STS-Daten eine neue elektronische Struktur bei ∼0.4 V und insgesamt deutlich eine metallische Charakteristik.

[1] R.-P. Blum, D. Ahlbehrendt, H. Niehus, Surf. Sci. 396 (1997) 176