Münster 1999 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 36: Poster (II)

O 36.22: Poster

Thursday, March 25, 1999, 20:00–22:30, Zelt

Ultradünne Kupferfilme auf der Iridium(100)-Oberfläche — •Bernhard Schaefer¹, Imre Kovacs² und Klaus Wandelt¹ — ¹Institut für Physikalische Chemie, Wegelerstr. 12, 53115 Bonn — ²Institute for Isotope and Surface Chemistry, Pf. 77, 1525 Budapest, Ungarn

Die Eigenschaften der Ir(100)-(1x1) (quadratische Symmetrie), der rekonstruierten Ir(100)-(5x1) (quasi-hexagonale Symmetrie) sowie von Cu-Filmen auf diesen beiden Substraten wurden mit UPS, PAX (Photoemission von Adsorbiertem Xenon), LEED, TDS und AES untersucht. Die deutlich verschiedenen elektronischen Strukturen der beiden Ir-Substrate spiegeln sich auch im Adsorptions/ Desorptions-Verhalten von Wasserstoff, CO und Xenon auf beiden Flächen wieder. Cu-Filme quadratischer Symmetrie wurden durch Deposition auf der Ir(100)-(1x1) bei 600K erzeugt. Cu-Deposition auf der Ir(100)-(5x1) bei tiefen Temperaturen ermöglichte das Wachstum von Filmen hexagonaler Symmetrie. Die Auswirkungen der unterschiedlichen atomaren Struktur (Symmetrie) der Filme auf ihre elektronische Struktur und Gasadsorption werden dargestellt.