Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 36: Poster (II)

O 36.64: Poster

Donnerstag, 25. März 1999, 20:00–22:30, Zelt

Lokale Deposition von Metallclustern in einer porösen Aluminiumoxyd-Membran — •A.-D. Müller¹, M Bäumle², F. Müller², G. Schmid² und M. Hietschold¹ — ¹Institut für Physik, TU Chemnitz, 09107 Chemnitz — ²Institut für Anorganische Chemie, Universität Essen, 45117 Essen

Metallische Cluster migrieren aufgrund ihrer negativen Ladung in die Poren einer durch anodische Oxydation hergestellten Aluminiumoxyd-Membran. Dabei verändern sich die optischen Eigenschaften der Membran. In einem nahfeldmikroskopischen Aufbau können die Cluster mit Hilfe einer zur Spitze ausgezogenen Mikropipette gezielt in einzelnen Poren deponiert. Auf diese Weise sollen einzelne Clusterdrähte erzeugt werden. Die entstehenden Strukturen lassen sich im Rasterelektronenmikroskop abbilden, da sie eine niedrigere Sekundärelektronenausbeute haben als die ungefüllte Membran.