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O: Oberflächenphysik

O 36: Poster (II)

O 36.71: Poster

Donnerstag, 25. März 1999, 20:00–22:30, Zelt

Gezielte lokale Oberflächenstrukturierung mittels elektrochemischer Metallabscheidung — •A. Bunk¹, A.-D. Müller¹, F. Müller² und M. Hietschold¹ — ¹Institut für Physik, Technische Universität, 09107 Chemnitz — ²Institut für Anorganische Chemie, Universität Essen, 45117 Essen

Unter potentiostatischer Kontrolle wurden aus einer elektrolytbefüllten Kapillare Kupfer-Mikrostrukturen auf Metall- und Halbleiteroberflächen lokal abgeschieden. Das Abscheidungsverhalten wurde durch Variation der relevanten Parameter systematisch untersucht. Als wichtigste Abscheidungsparameter wurden Potentialdifferenzen, Elektrodenabstände, Elektrolytdurchflussgeschwindigkeit und Substratvorschubgeschwindigkeit betrachtet. Erste Ergebnisse zur weiteren Miniaturisierung und zur numerischen Simulation werden vorgestellt.