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O: Oberflächenphysik
O 41: Methodisches (Experiment und Theorie) (II)
O 41.2: Vortrag
Freitag, 26. März 1999, 11:30–11:45, S2
Erste Messungen mit einem elliptischen 2D-Spektrometer* — •T. Dütemeyer1, K. Dörnemann1, M. Gari1, M. Kitz1, L.S.O. Johansson1, C. Quitmann1,2 und B. Reihl1 — 1Experimentelle Physik I, Universität Dortmund, D-44221 Dortmund — 2Neue Adresse: Swiss Light Source, Paul Scherrer-Institut, CH-5232 Villigen
Das neu gebaute 2D Spektrometer für Photoemission und Photoelektronendiffraktion liefert zweidimensionale Intensitätsverteilungen von Photoelektronen mit einer theoretischen Energieauflösung ΔE = 80 meV und Winkelauflösung Δφ=1o durch Verwendung eines elliptischen Elektronenspiegels (Tiefpass) in Kombination mit einem Mehrfachgittersystem (Hochpass) [1]. Die durch den elliptischen Spiegel verursachte Verzerrung wird durch die Segmentierung der Ellipse und numerische Korrekturen der 2D Intensitätsverteilung minimiert. Der Aufbau des Spektrometers zusammen mit der separat gepumpten Präparationskammer ist abgeschlossen. Wir berichten über erste Photoemissionsmessungen an Goldfilmen und Si(100) Einkristalloberflächen, die mit hν = 21.2 eV (He I) angeregt wurden. Detaillierte Simulationsrechnungen der Elektronentrajektorien sind im Einklang mit gemessenen Energieverteilungskurven (EDC’s) und zweidimensionalen E(k) Projektionen der Brillouinzone.
[1] D.E. Eastman et al., Nucl. Instr. Meth. 172, 327 (1980)
[*] Unterstützt von OMICRON Vakuumphysik GmbH, Taunusstein