DPG Phi
Verhandlungen
Verhandlungen
DPG

Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

TT: Tiefe Temperaturen

TT 15: Postersitzung II: Elektronische Eigenschaften (1-12), Josephson-Kontakte (13-27), Heavy Fermions (28-40), Theorie HTSL (41-48), M-I-Überg
änge, Korrelierte Systeme (49-79)

TT 15.24: Poster

Mittwoch, 24. März 1999, 14:30–18:00, Foy

Statistische Untersuchung des Herstellungsprozesses von “Inter-face-Engineered” Josephson-Kontakten — •J.-K. Heinsohn, R. Hadfield und R. Dittmann — Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich, 52425 Jülich

Wir untersuchen die Herstellung der Barriere durch Grenzflächenbehandlungen (“Interface-Engineered” Josephson-Kontakte). Die Barriere wird durch Nachbehandlung der Ar-Ionen-geätzten Barriere durch Ätzen mit hoher Energie und anschließendes Tempern der Proben unmittelbar vor der Deposition der oberen YBCO-Elektrode erzeugt. Dabei bildet sich vermutlich u.a. eine kubische, nicht-supraleitende Phase des
YBCO, welche metallische Eigenschaften aufweist. Durch statistische Experimentplanung und -auswertung wurden erstmals die Auswirkungen der Prozeßparameter auf die Eigenschaften der Kontakte systematisch untersucht. Die Ätzzeit und die Wechselwirkung aus Ätzzeit und Depositionstemperatur haben den größten Einfluß  auf die elektrischen Transporteigenschaften.Temperzeit und -temperatur wirken sich signifikant auf die Magnetfeldempfindlichkeit und Homogenität der Stromverteilung aus. Je nach Wahl der Parameter erzeugen wir reproduzierbar RSJ-artige Josephsonkontakte mit kritischen Strömen um 500 µA und normalleitenden Widerständen um 0,4 Ω oder Durchkontakte mit Flux-Flow-Verhalten und hohen kritischen Stromdichten (≈105 A/cm2). Der
Einfluß  der Prozeßparameter und ihrer Wechselwirkungen auf Art und Dicke der Barriere wird diskutiert.

100% | Mobil-Ansicht | English Version | Kontakt/Impressum/Datenschutz
DPG-Physik > DPG-Verhandlungen > 1999 > Münster