Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 3: Vakuummesstechnik

VA 3.1: Hauptvortrag

Montag, 22. März 1999, 15:20–16:00, ZH

Das Quadrupol-Massenspektrometer als Prozeßmonitor — •Christoph Lohe — MKS Instruments Deutschland GmbH, Schatzbogen 43, D-81829 München

Der Einsatz von Massenspektrometern zur Gasanalyse bei industriellen Anwendungen steigt stetig, Grund genug, die erforderliche Technik einmal genauer unter die Lupe zu nehmen. Besondere Aufmerksamkeit ist dabei auf Prozeßmonitore gerichtet - Massenspektrometer, die zur kontinuierlichen Überwachung technologischer Prozesse bis hin zu Atmosphärendruck eingesetzt werden. Neben der klassischen Restgasanalyse und Lecksuche ist der Prozeßmonitor in der Lage, eine Vakuumanlage zu qualifizieren und Fehlerquellen schon während der Prozessierung aufzudecken. Durch den Einsatz der differentiellen Pumptechnik in Verbindung mit geschlossenen Ionenquellen erreicht der Prozeßmonitor eine Nachweisempfindlichkeit für Gase bis in den sub-ppm Bereich, eine wichtige Voraussetzung für z.B. die Kontaminationskontrolle bei kritischen Halbleiterprozessen. Die Entwicklung geht hin zu anwendungsspezifischen kompakten Prozeßmonitoren mit hohem Automatisierungsgrad und intelligenter Software, die stark auf die besondere Aufgabenstellung zugeschnitten ist.